Предназначена для неразрушающего контроля толщины многокомпонентных пленок и покрытий в электронной промышленности
Программный комплекс может быть интегрирован в любые типы спектрометров и позволяет моделировать спектральный состав исследуемых объектов без использования эталонов, анализировать параметры спектра рентгеновского излучения на пути от рентгеновской трубки до окна детектора, учитывает порядок слоев и флуоресцентное излучение элементов подложки, а также рентгенооптическую схему съемки.
Программный комплекс обеспечивает быстрое и точное определение толщины многокомпонентных пленок без необходимости использования эталонных образцов на спектрометрах с любыми типами детекторов
Разработано программное обеспечение
Однослойная пленка Ni толщиной 100 нм, нанесенная магнетронным распылением на кремниевую подложку. Параметры съемки: U = 30 и 35 кВ, I = 200 мкА, Rh-анод, первичный фильтр – Al 50 мкм, углы φ = ψ = 45°, расстояние трубка–образец = 50 мм, детектор – ППД (Si, окно Be 25 мкм, чувствительный слой 500 мкм)
Трехслойное покрытие на стекле. Структура: Cr 50 нм / Ni 100 нм / Fe 30 нм на стеклянной подложке. Параметры съемки: U = 40 и 20 кВ, I = 300 мкА, без фильтра, φ = ψ = 45°
| Характеристика | Значение |
|---|---|
| Погрешность определения толщины | 5% |
| Диапазон измеряемых толщин пленок и покрытий | 1-500 мкм |
| Количество анализируемых слоев | до 3-х |
| Входные параметры | порядок слоев |
| состав слоев | |
| состав подложки |
Свидетельство о государственной регистрации программы для ЭВМ № 2025695359 «Программа для моделирования рентгенофлуоресцентного анализа толщин пленок и многослойных покрытий («XFilm»)»
| Центр трансфера технологий | |
| Санкт-Петербург, ул. Профессора Попова, дом 5, корпус 5, пом. 5432 | |
| +7 812 234-24-84 | |
| ctt@etu.ru |
