ВЧ-магнетрон для ионно-плазменного распыления

Предназначен для минимизации структурных дефектов диэлектрических плёнок, обеспечение воспроизведения их электрофизических свойств и высокой однородности толщины, а также правильно переданной кристаллической структуры

Аннотация

ВЧ-магнетрон представляет собой узел, который встраивается в ионно-плазменные распылительные системы. Геометрия магнетронного узла и конфигурация электрического и магнитных полей спроектированы таким образом, чтобы обеспечить наиболее эффективное распыление мишени, стехиометрический перенос распыленных атомов на подложку и за счет этого реализовать высокое структурное качество получаемых пленочных покрытий.

Ценностное предложение

Возможность адаптации ВЧ-магнетрона к различным ионно-плазменным распылительным системам для осаждения широкого спектра многокомпонентных диэлектрических материалов с обеспечением их высокого структурного качества.

Области применения

Электронная промышленность

Конкурентные преимущества

• Высокое качество формируемых плёнок: отсутствие дефектов и точное воспроизведение заданной кристаллической структуры
• Создание диэлектрических плёнок многокомпонентного состава (оксиды, нитриды, карбиды)
• Сервисное обслуживание и возможность модернизации за счет модульной архитектуры
• Гибкая адаптация к различным моделям ионно-плазменных распылительных систем
• Отечественная компонентная база

Стадия разработки

Изготовлен и испытан экспериментальный образец

Экспериментальный образец ВЧ-магнетрона

Основные технические характеристики